机译:在过渡金属离子存在下由S(IV)自氧化引起的DNA损伤在过渡金属离子存在下由S(IV)自氧化引起的DNA损伤
机译:在过渡金属离子存在下S(IV)自氧化引起的DNA损伤
机译:在过渡金属离子存在下S(IV)自氧化引起的DNA损伤
机译:铜(II)四甘氨酸配合物催化的S(IV)自氧化诱导的DNA损伤和2'-脱氧鸟苷氧化:第二种金属离子的协同作用
机译:建立对DNA损伤修复的结构理解修复DNA连接酶IV调控的质量转变分析
机译:表面活性剂系统在分析化学中的应用研究。第一部分。形成胶束的表面活性剂存在下氧和2-甲基氧肟的离解常数的测定。第二部分阴离子表面活性剂,阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂中一些金属离子的含量测定,分别采用氧化和2-甲氧基。第三部分阳离子表面活性剂中2-甲基氧肟酸的亚硝酸根的测定第四部分金属离子的测定。
机译:修复铁螯合剂存在下过氧化氢诱导的DNA损伤:核酸内切酶IV和Fpg的参与
机译:在过渡金属离子存在下由s(IV)自氧化诱导的DNa损伤
机译:过渡金属 - 硼 - 碳 - 硅系统中的三元相平衡。第四部分。热化学计算卷I.第IV,V和Vi族二元过渡金属碳化物的热力学性质